应用领域
非晶硅膜系太阳能电池的透明导电膜(SnO2、AZO、ITO)非晶硅膜(a-Si、μc-Si)、背电极膜(ZnO、AL)等的激光刻膜(刻线、切割)其它薄膜电池的膜层刻膜(金属钼Mo薄膜、金属镍Ni 薄膜、碲化CdTe薄膜)
产品特点
高速气浮工作台:膜面朝上运行;自动识别跟踪定位
直线电机驱动;自动湿度补偿;半导休端面泵浦光纤耦合激光器
四光路同步输出;自动进出料自动上下料;静态显示(动态观察)
技术指标
型号规格
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GSF-P1
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GSF-P2
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GSF-P3
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激光波长
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1064nm
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532nm
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532nm
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有效加工幅画
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1.1×1.4m (635×1245mm)
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最大运行速度
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2000mm/s
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平均刻膜速度
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800-1500mm/s
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重复定位精度
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± 10μm
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运动直线度
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± 10μm/1000mm
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最小刻膜线宽
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30-60μm
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三线外沿总宽度
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300-400μm
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