应用领域
非晶硅膜系太阳能电池的透明导电膜(SnO2、AZO、ITO)非晶硅膜(a-Si 、μc-Si)、背电极膜(ZnO、AL)等的激光刻膜(刻线、切割)其它薄膜电池的膜层刻膜(金属钼Mo薄膜、金属镍Ni 薄膜、碲化CdTe薄膜)
产品特点
半导休端面泵浦光纤耦合激光器;四光路同步输出
高速气浮工作台:膜面朝上运行;自动进出料自动上下料
自动识别跟踪定位;自动湿度补偿
直线电机驱动;静态显示(动态观察)
技术指标
型号规格
GSF-P1
GSF-P2
GSF-P3
激光波长
1064nm
532nm
有效加工幅画
1.1×1.4m (635×1245mm)
最大运行速度
2000mm/s
平均刻膜速度
800-1500mm/s
重复定位精度
± 10μm
运动直线度
± 10μm/1000mm
最小刻膜线宽
30-60μm
三线外沿总宽度
300-400μm