一、适用范围
适用于非晶硅薄膜太阳能电池的透明导电膜(SnO2、AZO、ITO)、非晶硅膜系(a-Si、μc-Si)、背电极膜(ZnO、AI)等材质的激光刻线,及其它薄膜太阳能电池的膜层刻膜(钙钛矿薄膜、金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜)。
二、技术特点
◆可根据不同使用场景及工艺要求配置合适的激光器
◆非接触式气浮工作平台,自动进出料
◆二维分离式直线运动平台,电池板膜面朝上运动
◆CCD自动识别与定位系统,保证刻线(清边)效果
◆独特的抽尘集尘系统,确保工作环境的洁净度
三、技术参数
设备型号
|
SE-P(1-5)
|
有效加工幅面
|
1400mmx1000mm(可根据需求定制)
|
最大运行速度
|
2000mm/s(P1/P2/P3/P5),200mm/s(P4)
|
重复定位精度
|
±10μm/1000mm
|
刻线直线度
|
±10μm/1000mm
|
最小刻膜线宽
|
30~60μm
|
清边宽度
|
5~20mm
|
三线外沿总宽度
|
300~500μm
|
|