一、适用范围
适用于高校、科研单位对钙钛矿电池制作工艺与装备研究。用于实验室钙钛矿太阳能电池生产过程中的膜层刻划或清除。
二、技术特点
◆可根据不同使用场景与工艺要求配置合适的激光器
◆二维三轴直线电机驱动,膜面朝上刻蚀加工
◆CCD视觉识别与定位,保证刻线(清边)效果
◆可根据客户要求进行定制化设计
三、设备技术参数
设备型号
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SE-P(X)
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有效加工幅面
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500mm×500mm(可根据需求定制)
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最大运行速度
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2000mm/s(P1-P3),200mm/s(P4)
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重复定位精度
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±10μm/500mm
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刻线直线度
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±10μm/500mm
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刻膜线宽(P1-P3)
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30~60μm
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清边宽度(P4)
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5~20mm
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三线外沿总宽度
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300~500μm
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激光器型号
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根据工艺需求选定
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