迈可诺公司是美国HARRICK等离子清洗机亚洲区唯一独家代理,迈可诺公司提供HARRICK等离子清洗机,欢迎来电咨询;
下面由我司给大家介绍一下HARRICK等离子清洗机在表面清洗方面的特点。
基本型:PDC-32G-2
扩展型:PDC-002
增强型:PDC-002-HP
等离子清洗的优点:
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去除有机污染物的化学反应(氧气或空气等离子体)或物理消融(氩等离子体)
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消除化学溶剂的使用以及储存和处理溶剂的浪费
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清洁表面用微尺度孔隙度或巩膜不适合溶剂清洗由于表面张力的局限性
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呈现最表面亲水;减少水滴接触角和表面��湿性能增加图1)(见也表面粘附和润湿性)
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促进其他表面附着力,提高焊接
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准备后续表面处理(如薄膜沉积或吸附的分子)
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表面消毒和去除微生物污染物;有利于生物医学应用和生物材料(见也生物材料)
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干净的表面而不影响材料的批量属性
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可以治疗各种材料以及复杂的表面几何图形;例子包括:
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半导体晶片和底物(Si,通用电气)
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玻璃幻灯片和基质
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光学和光学纤维
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氧化物(石英、氧化铟锡(ITO),二氧化钛,氧化铝;云母)
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金和金属表面
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电子显微镜(EM)网格
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原子力显微镜(AFM)悬臂技巧
应用程序
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清洁基质减少自发荧光背景来自有机污染物荧光显微镜
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清洁光学晶体(石英、通用电气、奈米),比色皿,基质光谱测量(ATR-FTIR,紫外- ser)
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清洁石英晶体石英晶体微量天平(药物)测量
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干净的AFM悬臂小贴士表面形态和摩擦力的测量
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清洁电子显微镜(EM)网格,标本持有者和基质
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清洁印刷电路(PC)董事会和表面粘合之前死去
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干净的黄金表面自组装实验
处理方法
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空气或氧气等离子体
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去除有机污染物通过化学反应高度活性氧自由基和消融,精力充沛的氧离子
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促进羟基化表面(哦组)
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可能表面氧化;氧化可能是不受欢迎的对一些材料(如黄金)和可能影响表面性质
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氩等离子体
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清洗离子轰击和物理消融的表面污染物
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不与表面反应或改变表面化学吗
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对于敏感的应用程序潜在污染微量杂质(如钙、钾、钠)硼硅玻璃,石英室建议标准Pyrex室
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建议为等离子体工艺参数值使用Harrick等离子体清洗干净(可能需要一些实验来确定最佳工艺条件)
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压力:100毫托托
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功率:中等或高
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处理时间:1 - 3分钟
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低功率可用于最小化表面粗化;过程的时间可能需要调整,以弥补较低的权力
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