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[新品] 磁力真空退火炉
(cl)
该设备用于半导体芯片生产工艺过程中,在可控磁场中实现真空退火、真空合金、真空晶化等工艺。该系统具有精确的磁场强度和温度控制系统和高真空系统。
更新:2024-12-28
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[促销] 高温氧化炉
(cl45)
扩散炉主要满足半导体电力电子器件行业、大功率集成电路等行业,对所加工硅片进行扩散、氧化、退火、合金等工艺。主要由扩散炉加热炉体、气源系统、控制系统、超净化操作系统等组成。选用工控机微控方式或者程控方式操作。
更新:2024-12-28
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