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多晶硅生长设备
■主要性能指标◆12对加热棒◆年产30-50吨◆纯度9-12N◆转化率：86%◆电耗：50度每公斤
更新:2013-07-25
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PECVD 退火(固化)炉
该设备主要用于太阳能电池（1200*600 *3.2mm板）在生产线中进行连续退火（烧结、固化）的大尺寸腔体专用设备。该类设备还可用于半导体器件的固化、烧结等应用（腔体尺寸可订制）。
更新:2013-07-25
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PECVD 全自动硅片装片机
■ 产品用途本机主要功能是将硅片自动装入到专用花篮中。使用本机可以大大降低碎片率，减少手跟硅片的接触，避免了人为因素对硅片的污染，有效的提高了成品率和转换率。本机托盘兼容156mm×156mm和125mm×125mm两种花篮格式，通过花篮下方传感器检测，不需任何操作即可自动实现单篮或双篮工作。
更新:2013-07-25
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PECVD等离子体刻蚀机
■ 产品用途该设备是基于真空中的高频激励而产生的辉光放电获得化学活性微粒与被刻蚀材料起化学反应产生挥发性物质进行刻蚀的。该设备特别适合于目前太阳能电池片生产中的电池周边掺杂硅的刻蚀，也可用于半导体工艺中多晶硅、氮化硅的刻蚀和去胶。
更新:2013-07-25
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等离子增强化学气相淀积设备
(PECVD)
■技术指标◆每管最大装片量：320片/舟（125*125）252片/舟（156*156）◆工艺指标：片内±3%，片间±3%，批间±3%◆控制：全进口自动压力闭环调节系统，精准控制反应真空；40KHzAE高频电源；工艺舟软着陆；全数字式控制，完善安全的过程控制保护。
更新:2013-07-25
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闭管软着陆扩散系统
闭管磷扩散，带有工艺废气冷却定向回收装置，工艺废气集中收集从尾部定向排出；工艺气体(三氯氧磷)可采用喷淋式方式引入到石英管内。闭管扩散方式工艺过程完全不受外界环 境干扰，工艺质量完全受控。
更新:2013-07-25
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